ITMO
ru/ ru

ISSN: 1023-5086

ru/

ISSN: 1023-5086

Scientific and technical

Opticheskii Zhurnal

A full-text English translation of the journal is published by Optica Publishing Group under the title “Journal of Optical Technology”

Article submission Подать статью
Больше информации Back

Butorin Pavel S.

Affiliation
A.F. Ioffe Institute of Physics and Technology, RAS, St. Petersburg, Russia

E-mail: Butorin_ps@mail.ru

ScopusID: 57204240279

ORCID: 0000-0002-6946-276X

Articles

Калмыков С.Г., Буторин П.С. Ксеноновая лазерная плазма как источник излучения для литографии на длинах волн вблизи 11 нм // Оптический журнал. 2024. Т. 91. № 6. С. 47–61. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2024-91-06-47-61

 

Kalmykov S.G., Butorin P.S. Xe laser plasma as a radiation source for lithography at wavelengths near 11 nm [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2024. V. 91. № 6. P. 47–61. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2024-91-06-47-61

Abstract

Буторин П.С., Калмыков С.Г. Оптимизация условий возбуждения ксеноновой лазерной плазмы в источнике экстремального ультрафиолетового излучения для нанолитографии с целью повышения его эффективности // Оптический журнал. 2024. Т. 91. № 5. С. 95–104. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2024-91-05-95-104

 

Butorin P.S., Kalmykov S.G. An optimization of conditions for excitation of xenon laser plasma in a source of extreme ultraviolet radiation for nanolithography in order to increase its efficiency [in Russian] // Opticheskii Zhurnal. 2024. V. 91. № 5. P. 95–104. http://doi.org/10.17586/1023-5086-2024-91-05-95-104

Abstract